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【國立交通大學】舉辦2019 GASE Formosa+ GX 國際專家工作坊-「繼往開來:建立全球化半導體研發及人才培育基地」
主旨:本校謹訂於108年10月25日(星期五)舉辦2019 GASE Formosa+ GX 國際專家工作坊-「繼往開來:建立全球化半導體研發及人才培育基地」,敬邀貴校相關領域之教職員生踴躍參加,並惠予公告周知,請查照。
說明:
一、旨揭活動為本校與科技部全球事務與科學發展中心共同舉辦,並邀請國內外半導體元件材料領域著名學者及傑出產業領袖,從產學並進方式落實跨界整合及深化國際研究合作層面探討,分享如何導入國際能量並串聯企業合作,培育出新一代半導體研發創新人才,以持續推升臺灣半導體科技發展之全球優勢,歡迎相關領域人員踴躍參加。
二、活動相關資訊說明如下:
時間:108年10月25日(星期五)10時至13時
地點:國立交通大學(光復校區)浩然圖書資訊中心B1國際會議廳(新竹市東區大學路1001號)
講者:
引言人:程海東 博士/交通大學國際半導體產業學院講座教授
與談人:
任廣禹 博士/香港城市大學學務副校長
孫元成 博士/前台積電副總經理兼技術長
陳冠能 博士/交通大學國際長暨國際半導體產業學院副院長
報名方式:本活動免費入場,自即日起受理報名,有意參與者請逕至線上報名系統登錄(https://forms.gle/cksMZQaHWETT71Wf9),席位有限額滿為止。
本活動敬備餐點,為響應環保政策,請自行攜帶飲水容器。
三、檢附活動海報及議程各1份,如需進一步瞭解資訊,請逕洽本校研發處研發企劃組承辦人郭小姐,連絡電話03-5712121轉分機53255。
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